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快速退（tuì）火爐設備說明
發布時間：
2023/10/23 20:09
快速退火爐采用鹵素紅外線燈作為熱源，通過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-1200°C，從而晶圓或材料的部分缺陷，提高產品性能。快速退火爐采用先進的微電腦控製（zhì）係統和（hé）PID閉環控溫，可達（dá）到較高的控溫精度和溫度均勻（yún）性，並（bìng）可根據用戶工藝要求配備真空室或多路氣體。快速退火爐主要由真空室、加熱室、進氣係統（tǒng）、真空係統、溫控係統、風冷係統、水冷（lěng）係統等組成。真空室：真空室是快速退火爐的（de）空間，晶片在此進行快（kuài）速熱處理。加熱室：加熱室采用多顆紅外燈作為加熱元件，以（yǐ）耐高溫（wēn）合金為框架，以高純為主體。進氣係統：真空室末端有進氣孔，采用精確控製的進氣口，以（yǐ）滿足某些（xiē）特殊工藝的用（yòng）氣要求（qiú）。真空（kōng）係統：真（zhēn）空泵（bèng）與真空腔之間裝（zhuāng）有高真（zhēn）空電磁閥，可有效保證腔體的真空度，同時（shí）防止氣體回流汙染腔體內已加（jiā）工的工件。溫控係統：溫控（kòng）係統由溫度傳感器、溫度控製器、電源調節器、可編程控製器（qì）、PC機（jī）及各種傳感器組成。風冷係統（tǒng）：真空室的冷卻（què）是通過進風（fēng）係統向腔內充入惰性氣體，以加速熱處理工（gōng）件的冷卻，達到工藝要求。水冷係（xì）統：水冷係統主要包括真空室、加熱室、各部件密封（fēng）圈的冷卻水。以上就是武漢嘉儀通（tōng）科（kē）技有（yǒu）限公司小編收集的內容，如有需要請與我們聯係。公司（sī）集快速（sù）退火爐、熱電性能測試、芯片晶（jīng）圓熱處（chù）理、鍵合爐、熱氮化、薄膜熱導（dǎo）率、退火爐、去（qù）應力退火、金屬合金化、薄膜熱處理、熱氧化、係（xì）數的研發、市場（chǎng）和技術服務於一體。公司專注於薄膜材料物理性（xìng）能測量儀器的自主研發，致力（lì）於為客戶提供薄膜材（cái）料的高低溫環（huán）境試驗、熱、電（diàn）等性能測試分析的整體解決方案。公司始終堅持自主研發與應用（yòng）創新，擁有自己的技術工程師研發團隊，建有省級工程實驗室、新型研發機構以及市級企業（yè）技術中心平台，擁有知識產權 ，主持（chí）承擔參（cān）與了 10 餘項科（kē）技攻關項目。
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