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快速退火爐設備說明
發布（bù）時間：
2023/10/02 20:15
快速退火爐（lú）采用鹵素紅外線燈作為熱源（yuán），通過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至（zhì）300°C-1200°C，從而晶圓或材料（liào）的部分缺陷，提高產品性能。快速退（tuì）火爐采用先進的微電腦控製係統和PID閉（bì）環控溫，可達到較高的控溫精度和溫度均勻性，並可根據用戶工藝要求配（pèi）備真空室或多路氣體。快速退火爐主要由真空室、加熱室、進氣係（xì）統、真空係統、溫控係統（tǒng）、風冷係統（tǒng）、水冷係統等組成（chéng）。真空室：真空室是快速退火爐的空（kōng）間，晶片在此進行快速熱處理。加熱室：加熱室（shì）采用多顆紅外燈作為加熱元（yuán）件，以耐高溫合金為框架，以高純為主體。進氣係統：真空室末端有進氣孔，采用精確控製的進氣口，以滿足某些特殊工藝的用氣要求。真空係統（tǒng）：真空泵與真（zhēn）空腔之間裝（zhuāng）有高真空電磁（cí）閥，可有效保證腔體（tǐ）的真空度（dù），同時防止氣體回（huí）流汙染腔體內已加工（gōng）的工件。溫控係統：溫控係統由溫度傳感器、溫度控製器、電源調節器、可編程控製器、PC機及各種傳感器組成。風（fēng）冷係統：真（zhēn）空室的冷卻是通過進風係統向腔內充入（rù）惰性氣體，以加速熱處（chù）理工件的冷卻，達到工藝（yì）要（yào）求。水冷係統：水冷係統（tǒng）主要包括（kuò）真空室、加熱室、各部件密封圈的冷卻水。以上就是武漢嘉儀通科技有（yǒu）限公司小（xiǎo）編收集的內容（róng），如有需要請與我們聯係（xì）。公司集快速退火爐、熱電性能測試、芯片晶圓熱處理、鍵合爐、熱氮化、薄膜熱導率、退火爐、去（qù）應力退（tuì）火、金屬合金化、薄膜熱處理、熱氧化、係數的研（yán）發、市場和技術服務於一體。公司專注於薄膜材料物理性能測量儀器的自（zì）主研（yán）發，致力於為客戶提供薄膜材料（liào）的（de）高低溫環境試驗、熱、電等性能測試分析的整體解決方案。公司始終堅持自主研發與應用創新，擁（yōng）有自己的技術工程師研（yán）發團隊，建有省級工程實驗（yàn）室、新型研發機（jī）構（gòu）以及市級（jí）企業技術中心平台，擁有（yǒu）知（zhī）識產權 ，主持承擔參與了（le） 10 餘項科技攻關項目。
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